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光学膜设备
1、涂布基?#27169;篜ET2、运行基材厚度:25-135 μm3、涂布宽度:1100mm4、涂布方式:两辊间隙5、干燥方式:UV固化6、机械运行速度:30m/min7、收放卷直径:放卷-600mm、收卷-800mm8、收放卷张力:放卷-3-30kgf/全幅宽,…
1)适合体系:水性溶剂,油性溶剂2)运行基材厚度:运行基材厚度3)涂布形式:微凹版,逗号刮刀,狭缝涂布4)张力范围:0-50kg5)机械运行速度:≤50m/min6)涂布宽度:800-1600mm7)涂布厚度:6-30μm8)烘箱最高温…
1)适合体系:水性溶剂,油性溶剂2)运行基材宽度:25-250μm3)涂布形式:微凹涂布,狭缝涂布4)张力范围:0-50kg5)机械运行速度:≤20m/min6)涂布宽度:300-1600mm7)涂布厚度:15-250μm8)烘箱最高温度:180℃…
1)运行基材厚度:6-20μm2)辊面设计宽度:1100mm3)涂布方式:微凹版,连续双面涂布4)保证涂布宽度:150-1000mm5)机械运行速度:≤30m/min6)单面涂布厚度:1-10μm7)烘箱:高洁净度全悬浮式8)烘道以外导辊:…
1)适合体系:水性溶剂,油性溶剂2)运行基材厚度:10-120μm3)涂布方式:微凹版,逗号刮刀,狭缝涂布4)张力范围:0-50kg5)机械运行速度:≤50m/min6)涂布宽度:1100-1600mm7)涂布厚度:50-120μm8)烘箱最高温…

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